Einzelheiten zu den Produkten

Zu Hause > Produits >

Halbleiteröfen

Halbleiter-Ofen-SEO-Serie

Alle Kategorien

SMT-Zusatzausrüstung

Kontakt mit uns

Ms. Yang

yanglin@suneast.com.cn

+86 13714780575

Kontaktieren Sie uns jetzt

Halbleiter-Ofen-SEO-Serie

Markenbezeichnung:	Suneast
Modellnummer:	Bei der Verwendung von
MOQ:	≥ 1 pc
Preis:	Verhandlungsfähig
Verpackungsdetails:	Kisten aus Sperrholz
Zahlungsbedingungen:	T/T

Einzelheiten

Beschreibung des Produkts

Einzelheiten

Herkunftsort:

Shenzhen, Provinz Guangdong, China

Zertifizierung:

CE、ISO

Name:

Halbleiterherde

Modell:

Bei der Verwendung von

Abmessung:

1700(L) *1200(W) *1800(H) mm

Abmessung der Box:

700 ((L) * 550 ((W) * 600 * 2) H) mm

Gewicht:

500 bis 800 kg

Gesamtleistung:

21 kW

Heizleistung:

10 kW*2

Betriebsspannung:

AC3Ø 5W 380V 50/60H

Temperaturgenauigkeit:

±0,5°C

Betriebsbereich der Temperatur:

Raumtemperatur +10°C bis 250°C

Temperaturregelungsmodus:

PID-Schlusskontrolle + SSR-Antrieb

Anpassbar:

- Ja, das ist es.

Hervorheben:

Multi-Modul-kombiniertes selektives Wellenlöter

Sprung-Linearmotor isomagnetisch

Magnetische Linearmotor Iso-Feder

Beschreibung des Produkts

Halbleiter-Ofen-SEO-Serie

Produktübersicht

Die Semiconductor Oven SEO-Serie verfügt über eine hohe Kapazitäts-PID-Anpassung mit ausgezeichneter Luftdichte für stickstoffgefüllte Umgebungen.und Glassubstrate, bietet dieser Ofen eine überlegene Temperaturgleichheit und Stabilität.

Schlüsselmerkmale

Eigenschaft	Wert
Modell	Bei der Verwendung von Zellstoff
Abmessung	1700(L) 1200(W) 1800(H) mm
Gewicht	500 bis 800 kg
Gesamtleistung	21 kW
Temperaturgenauigkeit	±0,5°C
Temperaturbereich	Raumtemperatur +10°C bis 250°C

Kerntechnologie

Horizontale Luftrückführung:Hochkapazitätssystem sorgt für eine höhere Temperaturgleichheit
Vollversiegelte Kammer:Edelstahlkonstruktion mit ausgezeichneter Luftdichtheit für Stickstoffeffizienz
Hochtemperaturmotor:Langachsmotor mit großen Turbinenblättern für einen stabilen Hochtemperaturbetrieb
Präzisionssteuerung:PID-Anpassung mit einer Genauigkeit von 0,5 °C und programmierbaren Prozessprofilen
Kompatibilität mit Reinräumen:Erfüllt tausendstufige Reinraumstandards für die Halbleiterproduktion
Sauerstoffkontrolle:Die Doppelkanal-Analyse hält den Sauerstoffgehalt unter 50 PPM.

Systemmerkmale

Struktur der Kammer

Es verfügt über ein oberes und ein unteres Heißluftzirkulationssystem mit einstellbarem Luftstrom, das aus hochwertigem Edelstahl und Schichtenhalterungen für eine optimale Raumnutzung gebaut ist.

Stickstoffsystem

Ausgestattet mit mehreren Durchflussmessern und Sauerstoffanalysatoren zur Echtzeitüberwachung.

Kühlsystem

Die Wasserkühlung mit der Flossenradiator-Blasstechnologie verkürzt die Kühlzeit und verhindert gleichzeitig die Beschädigung des Produkts durch schnelle Temperaturänderungen.

Sicherheitsschutz

Einschließlich Temperaturschutz, Sauerstoffüberwachung, Stickstoffdruckmelder, elektronische Sicherheitsschlösser und Notbremsschalter.

Leistungsprüfung

Die Partikelkonzentration ≤ 35200 (0,5 μm) entspricht den Standards für Reinigungsräume der Klasse Tausend.

Die hochdruckvolle Temperaturregelung mit PID-Regulierung sorgt für eine gleichmäßige Wärmeverteilung.

Technische Parameter

Parameter	Spezifikation
Boxgröße	700 ((L) * 550 ((W) * 600 * 2) H) mm
Betriebsmodus	Zwei unabhängige Kästchen (1-4 optional)
Temperaturgleichheit	±1,5%°C (ohne Belastung)
Aufheizzeit	≤15min (200°C bei freier Belastung)
Abkühlrate	2-5°C/min
Sauberkeitsklasse	Klasse 1000

Anforderungen an die Installation

Gasquelle:Stickstoffreinheit 99,999% bei 0,5-0,8 MPa

Leistung:380V 50/60HZ drei-Phasen-Fünf-Draht mit 25mm2 Kabel

Umwelt:Temperaturbereich 5-40°C, relative Luftfeuchtigkeit 20-95%

BodenbelastungMindestens 1000 kg/m2

Schlagworte:

Vakuumkammerofen

Heißluft-Zirkulations-Ofen

Waferbackofen

Verwandte Produkte

Video